产业专利分析报告

2021年是党和国家历史上具有里程碑意义的一年，对知识产权领域来说同样有着特殊的意义。中共中央、国务院相继印发实施《知识产权强国建设纲要(2021—2035年)》和《“十四五”国家知识产权保护和运用规划》，对知识产权事业未来发展作出重大顶层设计。国家“十四五”规划纲要将每万人口高价值发明专利拥有量写入主要预期性指标，将知识产权工作摆在了更加突出的位置。立足新发展阶段，国家知识产权局学术委员会坚持国家需求导向，紧紧围绕重点产业发展和关键技术突破面临的形势要求，每年组织开展一批专利分析课题研究，出版一批优秀课题成果，不断强化专利分析的研究深度和成果运用的实际效益，以期为提高我国关键核心领域自主知识产权的创造和储备，以及新领域新业态的创新发展提供支撑和指引。
这一年，重点围绕新一代信息技术、新型基础设施建设、新材料、生物医药及医疗器械、高端装备等5个产业领域选取了12个关键技术，组织了25家企事业单位近200名研究人员开展专利分析研究，圆满完成了各项课题研究任务，形成了一批有广度、有深度、有创新、有特色的研究成果。基于成果的推广价值和示范效应，最终选取其中5项成果集结成册，继续以《产业专利分析报告》（第84～88册）系列丛书的形式出版，所涉及的技术领域包括高端光刻机、动力电池检测技术、热交换介质、商业航天装备制造和电动汽车续航技术等。
《产业专利分析报告》（第84～88册）的顺利出版凝聚了各方的智慧和力量，各部门对重点研究方向的确定给予了鼎力支持，各省级、市级知识产权局、行业协会、科研院所等为课题顺利开展给予了必要帮助，近百名行业和技术专家参与其中指导研究。希望读者能充分吸收报告精华，在专利分析方法运用、专利创造和布局策略、技术发展趋势研判、关键技术突破等方面有所启发和借鉴。由于报告中专利文献的数据采集范围和专利分析工具的限制，加之研究人员水平有限，报告的数据、结论和建议仅供社会各界参考。

《产业专利分析报告》丛书编委会2022年6月

本书是高端光刻机领域的专利分析报告，从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报、主要技术分支专利等方面入手，充分结合相关数据展开分析，得出扎实的研究结论和相关建议。本书是企业了解高端光刻机领域技术发展现状并预测未来走向，以及做好专利预警所需的必备工具书。

国家知识产权局学术委员会为国家知识产权局内设的专利审查业务学术研究机构，本年度8种分析报告的承办方为优选的各地专利代理事务所、律师事务所以及相关行业协会。每种报告的课题组约由20人组成，分别进行数据收集、整理、分析、制图、审核、统稿。

第1章 概况
1.1研究背景
1.1.1技术发展概况
1.1.2产业现状
1.1.3产业发展趋势
1.2研究对象和方法
1.2.1研究对象
1.2.2研究方法
1.2.3相关事项和约定
第2章 专利壁垒指数模型研究
2.1研究意义
2.2研究对象
2.3研究优势
2.4专利壁垒指数模型
2.4.1建立流程
2.4.2相关因素
第3章 高端光刻机全球竞争情报分析
3.1高端光刻机专利总体竞争态势
3.1.1总体申请趋势
3.1.2原创目标国家地区专利申请分布
3.1.3重要申请人分析
3.2全球科技文献技术情报分析
3.3各领域申请趋势及布局趋势分析
3.3.1曝光系统
3.3.2工件台及测量系统
3.3.3环境与真空
3.4ASML专利分析
3.4.1ASML成长经历
3.4.2ASML专利申请与布局
3.4.3ASML科技文献信息分析
3.5中国申请人专利分析
3.5.1专利申请趋势分析
3.5.2申请人构成分析
3.5.3申请人的各技术分支申请分布
3.5.4重要申请人分析
3.6本章小结
第4章 EUV光源专利分析
4.1EUV光源技术介绍
4.2专利竞争态势分析
4.2.1申请态势
4.2.2专利区域分布
4.2.3重要申请人分析
4.3技术路线分析
4.3.1提高转换效率
4.3.2减少污染
4.3.3提高稳定性
4.4重要专利技术介绍
4.5全球科技文献情报分析
4.5.1EUV光源提高转换效率
4.5.2防止EUV光源污染
4.5.3提高稳定性
4.5.4全球科技文献情报分析小结
4.6技术发展趋势预测
4.7专利壁垒研究
4.8技术未来发展预测与中国技术发展路线
4.8.1借鉴G公司准分子激光器技术可行性分析
4.8.2人才战略资源导航
4.8.3专利可利用性浅析
4.9本章小结
第5章 投影物镜专利分析
5.1投影物镜技术介绍
5.2专利竞争态势分析
5.2.1申请态势
5.2.2专利区域分布
5.2.3主要申请人分析
5.3技术路线分析
5.3.1膜层设计
5.3.2多镜投影物镜系统整体设计
5.4重要专利技术介绍
5.5全球科技文献情报分析
5.6技术发展趋势预测
5.7投影物镜专利壁垒研究
5.8反射镜镀膜专利技术的充分利用
5.9本章小结
第6章 主要结论和建议
6.1主要结论
6.2主要建议
附录
附录1申请人名称约定表
附录2EUV光刻机重要专利列表
附录3可被借鉴的部分专利列表
图索引
表索引

本书是高端光刻机领域的专利分析报告，从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报、主要技术分支专利等方面入手，充分结合相关数据展开分析，得出扎实的研究结论和相关建议。