光子微结构的设计、制备与表征研究 9787576804461

第1章绪论

1.1研究背景与意义

1.2光子微结构制备技术的研究现状

1.2.1传统的光子微结构制备技术

1.2.2光感应技术制备光折变光子微结构

1.3本书的主要研究内容和特色

1.3.1本书的主要研究内容

1.3.2本书的特色

1.4本书的结构安排

参考文献

第2章光感应技术的理论基础

2.1电光效应

2.2光折变效应

2.3光折变过程的带输运模型

2.4光折变材料——铌酸锂晶体

2.5光波在非线性光学介质中传播的基本方程

2.6光折变非线性

2.6.1线性电光效应

2.6.2带运输模型

2.6.3各向同性近似模型

2.6.4各向异性模型

2.7周期性光学微结构

2.7.1光子带隙频谱

参考文献

第3章光折变准晶光子微结构的制备与表征

3.1准晶光子微结构的研究背景

3.2 多针孔板方案的理论基础

3.3二维光折变准晶光子微结构的制备与表征

3.4三维光折变准晶光子微结构的制备与表征

3.5本章小结

参考文献

第4章大面积二维光折变光子微结构的制备与表征

4.1多透镜板法制备大面积二维光折变光子微结构

4.1.1多透镜板法的基本原理

4.1.2大面积二维三角晶格光子微结构的制备与表征

4.2多楔面棱镜法制备大面积二维光折变光子微结构

4.2.1多楔面棱镜的基本原理

4.2.2大面积二维四方晶格与准晶光子微结构的

制备与表征

4.3本章小结

参考文献

第5章 二维复杂光折变光子微结构的制备与表征

5.1基于多光束干涉原理的复合周期光子微结构制备

5.1.1多光束干涉产生复合周期光强图案的原理

5.1.2多光束干涉制备复合周期光子微结构

5.2基于投影成像方法的复杂光子微结构制备

5.2.1投影成像法的原理与基础

5.2.2投影成像法中光源的选取

5.2.3投影成像法制备复杂类型光子微结构

5.3本章小结

参考文献

第6章光折变光子微结构的布拉格光学特性研究

6.1布拉格衍射与布拉格条件

6.2正向入射的布拉格衍射分析

6.2.1晶体正向放置

6.2.2晶体斜45°放置

6.3侧向入射的布拉格衍射分析

6.4本章小结

参考文献

第7章总结与展望

7.1本书总结

7.2研究展望

第1章绪论

1.1研究背景与意义

20世纪50年代以来，随着半导体技术的大范围应用，人类社会进入了高速发展的信息时代。以半导体器件为基础的微电子技术给信息领域带来了革命性的变化。步入21世纪，计算机网络和信息高速公路技术的日趋完善，使信息科学和信息技术得到了迅猛的发展。信息技术在科学研究和社会经济领域发挥了日益重要的作用，人们对信息传输中速度和容量上的需求也出现了爆炸式的增长。而电子器件集成度的不断提高，已使得半导体工艺逐渐接近其物理极限。在纳米尺度下，半导体中电子的量子波动效应越来越显著。半导体器件在传输速率、功耗、成本等方面都出现了很多难以克服的问题。导致这些问题出现的根本原因在于半导体器件的工作载体是电子，而电子是一种费米子，它具有静止质量，带有单位电荷，电子之间存在库仑力的相互作用。当器件尺度很小、集成度很高的时候会产生显著的热效应，且相互之间干扰严重，这些特性导致了“电子瓶颈”效应的产生。“电子瓶颈”限制了微电子技术的进一步发展，使微电子器件在信息容量、处理速率和空间相容性方面已逐渐难以满足信息技术增长的需要。因此，能否有效解决微电子技术极限引起的“电子瓶颈”问题，将对人们今后的社会生活、经济发展和科学研究产生深远的影响。

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本书共分7章, 内容包括: 绪论、光感应技术的理论基础、光折变准晶光子微结构的制备与表征、大面积二维光折变光子微结构的制备与表征、二维复杂光折变光子微结构的制备与表征等。