大型高功率激光装置设计与研制
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浙江嘉兴
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作者朱健强 主编
出版社上海科技
ISBN9787547851128
出版时间2021-10
装帧平装
开本16开
定价428元
货号31250455
上书时间2024-10-13
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作者简介
目录
《科学专著》系列丛书序
序
前言
第一篇 神光Ⅱ高功率激光系统
第1章 神光Ⅱ高功率激光综合平台目的和用途
§1.1 引言
§1.2 国内外高功率激光发展现状
§1.3 神光Ⅱ平台建造的目的和用途
§1.4 神光Ⅱ高功率激光平台建造年鉴
参考文献
第2章 神光Ⅱ平台组成及功能介绍
§2.1 神光Ⅱ平台组成的功能
§2.2 神光Ⅱ平台组成的指标
§2.3 神光Ⅱ平台的协调运行模式
参考文献
第3章 神光Ⅱ平台的物理成果
§3.1 ICF实验研究
§3.2 等离子体物理
§3.3 实验室天体物理
§3.4 高功率激光技术进展
§3.5 中韩合作
§3.6 NLF项目
参考文献
第二篇 神光Ⅱ单元技术
第4章 神光Ⅱ多功能注入分系统
§4.1 注入分系统的功能和总述
§4.2 国外前端预放系统进展
4.2.1 国外前端系统进展
4.2.2 国外预放系统进展
§4.3 神光Ⅱ装置前端预放系统的发展历程
4.3.1 第一代前端预放系统
4.3.2 第二代前端预放系统
4.3.3 神光Ⅱ装置前端预放系统
§4.4 神光Ⅱ装置前端系统功能和技术指标
4.4.1 神光Ⅱ装置前端系统功能概述
4.4.2 神光Ⅱ装置前端系统主要技术指标
4.4.3 神光Ⅱ装置前端系统工作模式
§4.5 神光Ⅱ装置前端系统总体技术方案和核心技术问题
4.5.1 神光Ⅱ装置前端系统总体技术方案
4.5.2 前端系统核心技术问题
§4.6 神光Ⅱ装置前端系统关键技术
4.6.1 神光Ⅱ装置前端纳秒脉冲整形组件
4.6.2 短脉冲选单与长短脉冲同步控制组件
4.6.3 钕玻璃再生放大器
4.6.4 神光Ⅱ装置注入系统信噪比分析
4.6.5 空间强度分布控制组件
4.6.6 OPCPA泵浦组件
§4.7 总结
参考文献
第5章 神光Ⅱ高功率激光放大系统
§5.1 放大系统的功能和总述
§5.2 放大系统的组成与设计
5.2.1 棒状放大器设计
5.2.2 片状放大器设计
5.2.3 空间滤波器及像传递
5.2.4 冷却系统设计
5.2.5 能源系统设计
§5.3 关键技术
5.3.1 大口径光束隔离技术
5.3.2 光束控制——焦斑匀滑技术
5.3.3 全系统仿真
§5.4 总结与展望
参考文献
第6章 神光Ⅱ高功率激光靶场技术
§6.1 靶场系统概述
§6.2 靶场系统的功能与组成
6.2.1 靶场系统功能
6.2.2 靶场系统组成
§6.3 靶场系统的单元组件
6.3.1 光束导引组件
6.3.2 反射镜架及其支撑结构
6.3.3 终端光学组件
6.3.4 真空靶室组件
6.3.5 靶定位瞄准组件
§6.4 关键技术
6.4.1 杂散光控制技术
6.4.2 高效谐波转换技术
6.4.3 多束束靶耦合技术
6.4.4 高通量终端光学组件技术
6.4.5 酸洗匀滑去除亚表面缺陷技术
§6.5 总结与展望
参考文献
第7章 激光参数测量与光束控制
§7.1 概述
§7.2 激光参数测量
7.2.1 常用激光参数与测量方法
7.2.2 功能与组成
7.2.3 发展历程
7.2.4 国内外发展现状
7.2.5 驱动器升级装置激光参数测量
7.2.6 关键技术
7.2.7 总结与展望
§7.3 光束自动准直
7.3.1 基本原理
7.3.2 组成单元
7.3.3 国内外研究进展
7.3.4 神光发展历程
7.3.5 主要关键技术
7.3.6 总结与展望
§7.4 自适应光学波前
7.4.1 综述
7.4.2 自适应光学在激光驱动器上的发展
7.4.3 组成单元
7.4.4 波前系统设计
7.4.5 总结与展望
§7.5 集总控制
7.5.1 基本概念
7.5.2 国内外研究发展现状
7.5.3 功能与组成
7.5.4 集总控制系统现状
7.5.5 关键技术
7.5.6 总结与展望
参考文献
第8章 神光系统工程工艺支撑技术
§8.1 概述
§8.2 装置总体结构设计关键技术
8.2.1 稳定性
8.2.2 洁净控制
8.2.3 波面控制
8.2.4 集成分析
§8.3 装置关键单元设计
8.3.1 预放系统设计
8.3.2 主放系统设计
8.3.3 靶场系统设计
8.3.4 拍瓦系统设计
8.3.5 参数测控系统设计
§8.4 通用系统设计
§8.5 安装集成技术
8.5.1 基准体系建立
8.5.2 单元组件的定位安装与测量
8.5.3 小结
§8.6 光学元件精密加工工艺
8.6.1 平面光学元件加工工艺
8.6.2 非球面光学元件加工工艺
8.6.3 大尺寸KDP晶体加工工艺
§8.7 协同设计与工程管理
参考文献
第三篇 高功率激光技术
第9章 超短脉冲激光原理与技术
§9.1 引言
§9.2 超短脉冲激光基本原理
9.2.1 超短脉冲激光在介质中的传输
9.2.2 光栅对与压缩器
9.2.3 展宽器原理与设计
9.2.4 介质色散分析与波形计算
9.2.5 光参量啁啾脉冲放大理论
§9.3 高功率
内容摘要
惯性约束核聚变（ICF）是一种核聚变技术，该技术利用激光的冲击波来引发核聚变反应。大型高功率激光装置是开展这方面研究的核心实验平台，是国际强国积极部署的重要发展方向之一。中国科学院和中国工程物理研究院高功率激光物理联合实验室在我国率先开展了大型高功率激光装置的总体设计与系统集成，30余年来先后成功研制了系列“神光”激光装置，引领我国在该领域的发展，在国际上享有重要影响力与学术地位。本书针对高功率激光装置的物理需求和功能目标，从总体设计、关键技术及核心元器件等方面，按分系统功能作技术分解和介绍，并结合神光系列装置的工程研制过程，总结分析关键技术、演化历程，并在此基础上专门介绍神光Ⅱ高功率激光系统在超短脉冲激光、皮秒拍瓦激光、飞秒拍瓦激光以及溶胶-凝胶化学膜化学膜制备方面的研发与探索，展示我国大型高功率激光装置开发的前沿目标，会对我国高功率激光装置的工程研制和技术及其更大规模和更高性能的发展起到促进作用。读者可通过本书对“神光”高功率激光装置这一大科学工程有全面、系统的认识。
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