微机电系统(MEMS)制造技术
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作者苑伟政,乔大勇
出版社科学出版社
ISBN9787030399748
出版时间2014-03
版次1
装帧精装
开本16开
纸张胶版纸
页数256页
字数304千字
定价128元
货号SC:9787030399748
上书时间2024-06-03
商品详情
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内容简介:
《微机电系统（MEMS）制造技术》主要论述微机电系统（MEMS）制造技术，《微机电系统（MEMS）制造技术》共9章。第1章阐述MEMS制造技术的定义、发展历程和发展趋势；第2章介绍MEMS制造的材料基础；第3章阐述MEMS制造中的沾污及洁净技术；第4章阐述包括光刻技术和软光刻技术在内的图形转移技术；第5章阐述湿法腐蚀与干法刻蚀技术；第6章阐述氧化、扩散与注入技术；第7章介绍各种薄膜制备技术；第8章介绍包括表面牺牲层工艺、体加工工艺和混合工艺在内的MEMS加工标准化工艺；第9章阐述MEMS的芯片级和圆片级封装工艺。《微机电系统（MEMS）制造技术》结合大量设备操作实例和工艺实例，贴近实践，易于理解。同时，考虑到MEMS加工工艺过程涉及大量化学品的使用，还专门以附录的形式对孔MEMS制造常用化学品物质安全资料表和基本化学品安全术语进行了介绍。
本书适合作为MEMS相关专业研究生教材，也可供相关领域的科技人员阅读参考。
目录:
《微纳制造的基础研究学术著作丛书》序
前言
第1章 绪论 1
1.1 微机电系统定义 1
1.2 MEMS制造技术 3
1.3 MEMS制造技术发展历程 4
1.4 MEMS制造技术发展趋势 10
参考文献 13
第2章 MEMS制造材料基础 15
2.1 引言 15
2.2 硅材料 15
2.3 硅化合物 20
2.3.1 二氧化硅 20
2.3.2 氮化硅 21
2.4 压电材料 22
2.5 形状记忆合金 24
2.6 超磁致伸缩材料 28
2.7 电流变/磁流变体 28
2.8 有机聚合物材料 29
2.8.1 PI 30
2.8.2 PDMS 30
2.8.3 PMMA 33
2.9 聚合物前驱体陶瓷 34
参考文献 36
第3章 MEMS制造中的沾污及洁净技术 38
3.1 MEMS制造中的沾污 38
3.1.1 洁净间技术 39
3.1.2 去离子水技术 41
3.1.3 防静电技术 44
3.2 MEMS制造中的清洗 48
3.2.1 SPM清洗 48
3.2.2 RCA清洗 49
3.2.3 DHF清洗 50
3.2.4 超声/兆声清洗 50
3.2.5 其他清洗 53
3.2.6 标准清洗流程 53
参考文献 55
第4章 图形转移 56
4.1 引言 56
4.2 光刻技术 56
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