电子枪与离子束技术

图书标准信息

• 作者 张以枕 著
• 出版社 冶金工业出版社
• 出版时间 2004-01
• 版次 1
• ISBN 9787502433895
• 定价 29.00元
• 装帧 平装
• 开本 32开
• 纸张 胶版纸
• 页数 284页
• 字数 288千字
• 正文语种 简体中文

【内容简介】

　　本书主要介绍与电子枪、离子源设计有关的基础理论，离子源及离子束应用技术，特别介绍了常用的强流轴向电子枪、偏转电子枪、HCD电子枪与S枪的设计与计算。
　　本书集设计理论和具体设计方法于一体，理论与工程实践有机结合，适合于真空技术、真空冶金、材料工程、热处理、焊接等行业从事设计研究、设备应用与维护的技术人员使用，也可供大专院校相关专业师生参考。

【目录】

1电子光学
1.1电子光学特征
1.2轴对称电场中的电子运动
1.3电透镜
1.4磁透镜
1.5实用磁透镜
1.6静电透镜与磁透镜的比较
2电子束技术基础
2.1电子束的产生及性质
2.2电子枪概述
2.3强流电子枪设计基础
2.4电子束蒸发沉积
3离子束物理基础
3.1等离子体基本性质
3.2等离子体的分类
3.3等离子体的获得
3.4低温等离子体中粒子运动和效电基本过程
3.5离子束与材料表面的相互作用
4强流轴向电子枪
4.1概述
4.2轴向电子枪基本结构和工作原理
4.3轴向电子束发生系统设计计算
4.4电子光路系统设计计算
4.5枪室真空系统设计
4.6电子枪的调试
4.7强流轴向枪电源设计
4.8电子枪X射线的形成与屏蔽防护
5偏转电子枪
5.1电子束流磁偏转理论基础
5.2偏转电子枪工作原理与结构
5.3偏转枪（e型枪）参数设计
5.4偏转电子枪束流设计计算
5.5压差孔的设计
5.6电子枪头的安装与调试
5.7偏转电子枪电源
6空心阴极放电（HCD）电子枪
6.1空心阴极放电效应
6.2空心阴极电子枪工作原理
6.3空心阴极电子枪设计参数
6.4HCD枪中等离子体的离化率与电流形成
6.5偏转电磁场的设计计算
6.6空心阴极与辅助阳极的设计
6.7离子镀中等离子源的束流偏转
7离子束技术
7.1离子源
7.2离子注入技术
7.3离子束沉积技术
8S枪离子溅射源的设计基础
8.1S枪的基本原理与结构
8.2S枪溅射源结构设计
8.3S枪磁控溅射的工作特性
8.4基本参数的设计计算
参考文献