薄膜技术与应用

图书标准信息

• 作者 冯丽萍、刘正堂 著
• 出版社 西北工业大学出版社
• 出版时间 2016-02
• 版次 1
• ISBN 9787561247396
• 定价 39.00元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 222页
• 字数 346千字
• 正文语种 简体中文
• 丛书 西北工业大学研究生高水平课程体系建设丛书

【内容简介】

　　《薄膜技术与应用》为研究生高水平课程教材。全书主要内容包括真空技术基础、真空蒸发镀膜、分子束外延生长、溅射镀膜、激光脉冲沉积、离子镀和离子束沉积、化学气相沉积、原子层沉积（ALD）镀膜、溶液镀膜法和自组装膜等。
　　《薄膜技术与应用》既可作为研究生的相关课程教材，也可供其他人员学习参考。

【目录】

第1章 真空技术基础
1．1 真空的基本知识
1．2 稀薄气体的性质
1．3 真空的获得
1．4 真空的测量
习题

第2章 真空蒸发镀膜
2．1 真空蒸镀原理
2．2 蒸发加热方式及蒸发源
2．3 真空蒸镀工艺
2．4 真空蒸镀应用举例
习题

第3章 分子束外延生长
3．1 分子束外延的原理及特点
3．2 分子束外延设备
3．3 MBE生长
3．4 MBE方法制备的材料及其器件应用
习题

第4章 溅射镀膜
4．1 溅射镀膜的特点
4．2 溅射的基本原理
4．3 溅射特性
4．4 溅射原子的能量分布和角分布
4．5 溅射过程
4．6 溅射方法
4．7 溅射镀膜的实例
习题

第5章 激光脉冲沉积
5．1 激光脉冲沉积镀膜原理
5．2 工艺参数对PLD镀膜质量影响
5．3 脉冲激光沉积的优缺点
5．4 脉冲激光沉积的种类及应用
习题

第6章 离子镀和离子束沉积
6．1 离子镀
6．2 几种典型的离子镀方式
6．3 离子束沉积
6．4 应用实例
习题

第7章 化学气相沉积
7．1 CVD沉积基本原理
7．2 常用的化学气相沉积方法
7．3 CVD应用镀膜实例
习题

第8章 原子层沉积（ALD）镀膜
8．1 ALD的原理
8．2 ALD的技术特征及优点
8．3 ALD的种类
8．4 ALD的应用举例
习题

第9章 溶液镀膜法
9．1 电镀技术
9．2 化学镀
9．3 溶胶-凝胶（Sol-Gel）法
9．4 阳极氧化法
9．5 LB技术
9．6 溶液镀膜法应用举例
习题

第10章 自组装膜
10．1 自组装技术
10．2 自组装单分子膜
10．3 层层自组装多层膜
10．4 自组装膜制备的影响因素
10．5 自组装膜的表征
10．6 自组装膜应用
习题
参考文献