TFT-LCD原理与设计

图书标准信息

• 作者 马群刚 著
• 出版社 电子工业出版社
• 出版时间 2011-09
• 版次 1
• ISBN 9787121145940
• 定价 59.80元
• 装帧 平装
• 开本 16开
• 纸张 胶版纸
• 页数 464页
• 字数 749千字
• 正文语种 简体中文

【内容简介】

《TFT-LCD原理与设计》基于TFT-LCD工厂生产的实践，科学原理与工程应用相结合。介绍了TFT-LCD的基本概念，组成材料，工艺和设计流程等；列举了高品质、低成本的设计理念和设计方法；最后在以低温多晶硅LTPS工艺为例，介绍中小尺寸，特别是便携式TFT-LCD产品的发展。对一线技术人员及电子专业的学生具有重要的参考价值。

【目录】

第一章TFT-LCD概述
1.1TFT-LCD的发展
1.1.1TFT-LCD发展简史
1.1.2TFT-LCD的竞争与趋势
1.1TFT-LCD的基本概念
1.2.1产品相关的概念
1.2.2光学相关的概念
1.3TFT-LCD的结构与功能

第二章彩色TFT-LCD基础
2.1色彩学基础
2.1.1光与色
2.1.2光的亮度
2.1.3色的坐标
2.1.4色的温度
2.1.5TFT-LCD的彩色显示
2.2TFT器件基础
2.2.1TFT器件原理
2.2.2TFT开关的特性要求
2.2.3TFT开关特性的工艺设计
2.2.4TFT开关特性的结构设计
2.3液晶显示基础
2.3.1液晶的基本结构与特性
2.3.2液晶光学
2.3.3液晶电学
2.3.4液晶力学
2.3.5液晶的显示模式

第三章TFT-LCD材料技术
3.1玻璃基板
3.1.1玻璃基板的制造技术与发展
3.1.2玻璃基板的使用要求
3.2ITO薄膜
3.3配向膜
3.3.1配向膜的材料技术
3.3.2配向膜的特性要求
3.4液晶材料
3.4.1液晶的物理特性与分子结构设计
3.4.2液晶材料的特性要求
3.5Seal材
3.6微粒子
3.6.1球状Spacer
3.6.2纤维状Spacer和金球Spacer
3.7CF基板
3.7.1CF的材料技术
3.7.2CF的特性要求
3.7.3CF的制造技术
3.8偏光薄膜
3.8.1偏光板
3.8.2相位差板
3.8.3宽视角补偿膜
3.9电路元件
3.10背光源
3.10.1光源
3.10.2光学膜片
3.10.3导光板

第四章TFT-LCD工艺技术
4.1阵列工艺技术
4.1.1阵列工艺流程
4.1.2洗净工艺
4.1.3Sputter成膜工艺
4.1.4CVD成膜工艺
4.1.5PR工艺
4.1.6曝光工艺
4.1.7湿刻工艺
4.1.8干刻工艺
4.1.9阵列检查工程
4.2成盒工艺技术
4.2.1配向膜成膜与配向
4.2.2Spacer散布与固着
4.2.3封框胶与银浆涂布
4.2.4液晶滴下
4.2.5真空贴合
4.2.6封框胶硬化
4.2.7玻璃切断
4.2.8偏光板贴付
4.2.9成盒工程检查
4.3模块工艺技术
4.3.1OLB工程
4.3.2PCB压接
4.3.3模块组装
4.3.4老化实验
4.3.5模块工程检查

第五章TN显示原理与设计
5.1TN显示原理
5.1.1TN显示的光透过率
5.1.2TN显示的光学原理
5.1.3TN显示的电学原理
5.2TN像素工作原理
5.2.1TN像素基本结构
5.2.2像素中的电容效应
5.2.3配线延迟效应
5.2.4灰阶电压写入与保持
5.2.5TN显示的综合效应
5.315XGA的显示屏设计
5.3.1预设计
5.3.2阵列侧像素设计
5.3.3彩膜侧像素设计
5.3.4显示屏周边设计
5.3.5显示屏用Mark设计
5.415XGA的基板相关设计
5.4.1基板用TEG与Mark设计
5.4.2UVMask与UVSheet设计
5.4.3配向膜印刷版设计

第六章IPS显示原理与设计
6.1IPS显示原理
6.1.1IPS显示的光透过率
6.1.2IPS显示的光学原理
6.1.3IPS显示的电学原理
6.1IPS技术的发展
6.2.1从单畴结构到多畴结构
6.2.2有机膜IPS技术
6.332HD显示屏设计
6.3.1S-IPS像素概要
6.3.2SA-IPS像素概要
6.3.332HD像素设计
6.3.432HD显示屏设计
6.4FFS显示原理与设计
6.4.1FFS的电光学原理
6.4.2FFS技术的发展
6.4.3FFS的像素设计
6.5IPS残像机理与解决方案
6.5.1IPS残像机理
6.5.2离子型不纯物分析
6.5.3残留DC分析
6.5.4线残像的机理与对策

第七章VA显示原理与设计
7.1VA显示原理
7.1.1VA显示的光透过率
7.1.2VA显示的光学原理
7.1.2VA显示的电学原理
7.2不同VA技术的发展
7.2.1MVA技术的发展
7.2.2PVA技术的发展
7.2.3CPA技术的发展
7.2.4新型VA显示技术
7.3VA的色偏机理与对策
7.3.1VA的色偏机理与评价
7.3.2色偏的改善技术
7.446FHD显示屏设计
7.4.146FHD像素的预设计
7.4.246FHD像素的详细设计
7.4.346FHD显示屏的整体设计
7.4.446FHD显示屏拼接曝光设计

第八章TFT-LCD驱动技术与设计
8.1TFT-LCD驱动原理
8.1.1驱动原理简介
8.1.2驱动方式
8.1.3阶调增强技术
8.2TFT-LCD电路技术
8.2.1电源电路
8.2.2时序控制电路
8.2.3数据驱动电路
8.2.4扫描驱动电路
8.2.5接口电路
8.3TFT-LCD电路设计
8.3.1电路设计概要
8.3.2电路原理图设计
8.3.3PCB版图设计
8.3.4COF设计
8.3.5伽玛设计与调节

第九章TFT-LCD结构技术与设计
9.1结构技术与设计概要
9.1.1结构技术概要
9.1.2结构设计概要
9.2OPENCELL结构设计
9.3背光源结构设计
9.3.1后板金设计
9.3.2导光板设计
9.3.3光学膜片设计
9.3.4灯管设计
9.3.5灯管反射罩和电源线设计
9.3.6LED光源的结构设计
9.4模块结构综合设计
9.4.1组装设计
9.4.2强度设计
9.4.3散热与防尘设计
9.4.4电学设计
9.4.5光学设计
9.4.6安全性设计

第十章高品质和低成本设计
10.1面向光学规格的高品质设计
10.1.1高亮度设计
10.1.2高对比度设计
10.1.3高响应速度设计
10.2面向特殊画质的高品质设计
10.2.1闪烁机理与设计对策
10.2.2串扰机理与设计对策
10.2.3显示不均机理与设计对策
10.3合格率设计
10.3.1工程检查及相关设计
10.3.2ESD改善设计
10.3.3点缺陷修复设计
10.3.4线缺陷修复设计
10.4低成本设计
10.4.14MASK设计
10.4.2省UVMASK设计
10.4.3低材料成本设计

第十一章LTPSTFT-LCD原理与设计
11.1LTPSTFT原理与设计
11.1.1LTPSTFT器件基础
11.1.2LTPSTFT特性设计
11.1.2LTPSTFT工艺技术
11.2LTPSTFT-LCD周边电路集成设计
11.2.1模拟输入电路集成设计
11.2.2DAC内置电路集成设计
11.3半透过型LTPSTFT-LCD原理与设计
11.3.1半透过型LTPSTFT-LCD
11.3.2半透过型TFT-LCD的反射光学设计
11.3.3半透过型TFT-LCD的偏光光学设计