低维纳米材料制备方法学
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作者俞书宏
出版社科学出版社
ISBN9787030606440
出版时间2019-06
版次1
装帧精装
开本16开
纸张胶版纸
页数411页
字数518千字
定价150元
货号SC:9787030606440
上书时间2024-09-16
商品详情
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作者简介:
俞书宏，中国科学技术大学教授、国家杰出青年科学基金获得者、教育部“长江学者奖励计划”特聘教授、国家重大科学研究计划项目首席科学家、国家自然科学基金委员会创新研究群体科学基金学术带头人、科技部创新人才推进计划重点领域创新团队负责人、中组部国家“万人计划”科技领军人才、英国皇家化学会会士。
内容简介:
本书为“低维材料与器件丛书”之一。由于低维材料尺寸较小，其通常具有较高比表面积和活性，这使得大量、稳定地制备低维材料需要用到一些特殊的方法。此外，低维材料的性能与其形貌、物相、成分及元素分布等关系密切，因此还需要考虑制备过程及产物的可控性。以低维材料的实际应用为导向，本书系统介绍了通过物理、化学方法制备低维材料的策略。内容不仅涵盖发展较为成熟的各类气相、液相和固相制备技术，还介绍了可控、连续、宏量制备低维材料的研究前沿。
目录:
总序
前言
第1章 低维纳米材料制备方法概述
1.1 低维纳米材料概述
1.1.1 低维纳米材料的发展历程
1.1.2 低维纳米材料的结构与物性特征
1.2 低维纳米材料制备方法的前沿进展概述
1.2.1 低维纳米材料制备方法简介
1.2.2 低维纳米材料制备技术前沿概述
参考文献
第2章 低维纳米材料的气相沉积制备技术
2.1 物理气相沉积
2.1.1 物理气相沉积简介
2.1.2 物理气相沉积制备低维纳米材料
2.1.3 物理气相沉积制备纳米材料展望
2.2 化学气相沉积（CVD）
2.2.1 概述
2.2.2 CVD技术简介
2.2.3 CVD技术在低维纳米材料制备中的应用
2.2.4 CVD技术制备纳米材料展望
参考文献
第3章 低维纳米材料的液相法制备
3.1 低维纳米材料的液相成核生长理论
3.1.1 晶体成核过程的热力学基础
3.1.2 经典成核生长理论
3.1.3 单体与晶核的形成过程
3.1.4 几种常见的生长模式
3.1.5 低维纳米晶生长过程的调控策略
3.1.6 异质成核的热力学基础及成核模式
3.2 密闭体系下低维纳米材料液相合成
3.2.1 密闭体系下低维纳米材料合成方法简介
3.2.2 密闭体系下非金属低维纳米材料的合成
3.2.3 密闭体系下金属氧化物低维纳米材料的合成
3.2.4 密闭体系下金
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