薄膜技术与薄膜材料
正版新书 新华官方库房直发 可开电子发票
￥ 22.5 7.5折 ￥ 30 全新
库存14件
作者石玉龙,闫凤英 编著
出版社化学工业出版社
ISBN9787122226181
出版时间2015-03
版次1
装帧平装
开本32开
纸张胶版纸
页数242页
字数210千字
定价30元
货号SC:9787122226181
上书时间2024-06-25
商品详情
- 品相描述：全新
- 全新正版 提供发票
- 商品描述
-
内容简介:
本书是作者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成，全书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术（包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜），化学气相沉积技术（包括简单的cvd相关理论、设备装置、cvd种类等），硬膜及超硬膜的制备技术（金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、cnx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等），以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术（包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容）。
本书除了具有一定的理论参考价值外，也具有较为广泛的应用价值，既可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。
目录:
1物理气相沉积
1.1物理气相沉积
1.2真空蒸发镀膜
1.2.1真空蒸发的基本过程
1.2.2蒸发热力学
1.2.3蒸发速率
1.2.4蒸发分子的平均自由程与碰撞概率
1.2.4.1蒸发分子平均自由程
1.2.4.2碰撞概率
1.2.5蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
1.2.5.1点蒸发源
1.2.5.2小平面蒸发源
1.2.6蒸发源的类型
1.2.6.1电阻加热蒸发源
1.2.6.2电子束加热蒸发源
1.2.6.3高频感应加热蒸发源
1.2.6.4电弧加热蒸发源
1.2.6.5激光加热蒸发源
1.2.7合金及化合物蒸发
1.2.7.1合金的蒸发
1.2.7.2合金薄膜的制备方法
1.2.7.3化合物蒸发法
1.3溅射镀膜
1.3.1辉光放电
1.3.1.1直流辉光放电的过程与特性
1.3.1.2帕邢定律
1.3.1.3直流辉光放电的现象与其特性
1.3.1.4高频辉光放电的特性
1.3.2溅射原理
1.3.2.1溅射现象
1.3.2.2溅射机理
1.3.2.3溅射率
1.3.2.4溅射原子的能量和速度
1.3.3溅射镀膜技术
1.3.3.1二极溅射
1.3.3.2三极或四极溅射
1.3.3.3射频（RF）溅射
1.3.3.4磁控溅射
1.3.3.5反应溅射
1.4离子镀膜
1.4.1离子镀原理
1.4.2离子镀膜条件
1.4.3离子镀的特点
1.4.4离化率与离子能量
1.4.5离子的轰击作用
1.4.6离子镀类型
— 没有更多了 —
以下为对购买帮助不大的评价