• 薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版第二版) 唐伟忠 冶金工业出版社 9787502430979 正版旧书
21年品牌 40万+商家 超1.5亿件商品

薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版第二版) 唐伟忠 冶金工业出版社 9787502430979 正版旧书

正版旧书 里面部分笔记 内容完好 可正常使用 旧书不附带光盘

3.08 九五品

库存27件

江西南昌
认证卖家担保交易快速发货售后保障

作者唐伟忠

出版社冶金工业出版社

ISBN9787502430979

出版时间2003-01

装帧线装

页数323页

货号1074477

上书时间2024-04-17

辉煌二手教材专营店

七年老店
已实名 已认证 进店 收藏店铺

   商品详情   

品相描述:九五品
商品描述
温馨提示:亲!旧书库存变动比较快,有时难免会有断货的情况,为保证您的利益,拍前请务必联系卖家咨询库存情况!谢谢!
书名:薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版)
编号:1074477
ISBN:9787502430979[十位:]
作者:唐伟忠
出版社:冶金工业出版社
出版日期:2003年01月
页数:323
定价:28.00 元
参考重量:0.308Kg
-------------------------
新旧程度:6-9成新左右,不影响阅读,详细情况请咨询店主
如图书附带、磁带、学习卡等请咨询店主是否齐全* 图书目录 *
1 薄膜制备的真空技术基础
 1.1 气体分子运动论的基本概念
 1.2 气体的流动状态和真空抽速
 1.3 真空泵简介
 1.4 真空的测量
 参考文献
2 薄膜的物理气相沉积(Ⅰ)——蒸发法
 2.1 物质的热蒸发
 2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度
 2.3 真空蒸发装置
 参考文献
3 薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)——溅射法及其他PVD方法
 3.1 气体放电现象与等离子体
 3.2 物质的溅射现象
 3.3 溅射沉积装置
 3.4 其他物理气相沉积方法
 参考文献
4 薄膜的化学气相沉积
 4.1 化学气相沉积反应的类型
 4.2 化学气相沉积过程的热力学
 4.3 化学气相沉积过程的动力学
 4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟
 4.5 化学气相沉积装置
 4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术
 参考文献
5 薄膜的生长过程和薄膜结构
 5.1 薄膜生长过程概述
 5.2 新相的自发形核理论
 5.3 薄膜的非自发形核理论
 5.4 连续薄膜的形成
 5.5 薄膜生长过程与薄膜结构
 5.6 非晶薄膜
 5.7 薄膜结构
 5.8 薄膜的外延生长
 5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力
 参考文献
6 薄膜材料的表征方法
7 薄膜材料及其应用
  • 薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版第二版) 唐伟忠 冶金工业出版社 9787502430979 正版旧书

—  没有更多了  —

以下为对购买帮助不大的评价

此功能需要访问孔网APP才能使用
暂时不用
打开孔网APP