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  • 薄膜材料与薄膜技术(第二版第2版) 郑伟涛 化学工业出版社 9787122013149 正版旧书
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薄膜材料与薄膜技术(第二版第2版) 郑伟涛 化学工业出版社 9787122013149 正版旧书

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￥ 7.6 八五品

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江西南昌
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作者郑伟涛

出版社化学工业出版社

ISBN9787122013149

出版时间2007-01

装帧线装

页数249页

货号1017641

上书时间2024-04-17

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品相描述：八五品
商品描述
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书名：薄膜材料与薄膜技术(第二版)
编号：1017641
ISBN：9787122013149[十位:]
作者：郑伟涛
出版社：化学工业出版社
出版日期：2007年01月
页数：249
定价：38.00 元
参考重量：0.416Kg
-------------------------
新旧程度：6-9成新左右，不影响阅读，详细情况请咨询店主
如图书附带、磁带、学习卡等请咨询店主是否齐全* 图书目录 *
*章 真空技术基础
 *节 真空的基本知识
 一、表示真空程度的单位
 二、真空区域的划分
 三、固体对气体的吸附及气体的脱附
 第二节 真空的获得
 一、旋片式机械真空泵
 二、复合分子泵
 三、低温泵
 第三节 真空的测量
 一、电阻真空计
 二、热偶真空计
 三、电离真空计
 参考文献
第二章 薄膜制备的化学方法
 *节 热氧化生长
 第二节 化学气相沉积
 一、一般化学气相沉积反应
 二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法
 三、激光化学气相沉积
 四、光化学气相沉积
 五、等离子体增强化学气相沉积
 第三节 电镀
 第四节 化学镀
 第五节 阳极反应沉积
 第六节 LB技术
 参考文献
第三章 薄膜制备的物理方法
 *节 真空蒸发
 一、真空蒸发沉积的物理原理
 二、真空蒸发技术
 第二节 溅射
 一、溅射的基本原理
 二、溅射镀膜的特点
 三、溅射参数
 四、溅射装置
 第三节 离子束和离子助
 一、离子镀
 二、阴极电弧等离子体沉积
 三、热空阴极枪蒸发
 四、离子轰击共沉积
 五、非平衡磁控离子助沉积
 六、离子束沉积
 第四节 外延生长
 一、分子束外延(MBE)
 二、液相外延生长(LPE) 
 三、热壁外延生长(HWE)
 四、有机金属化学气相沉积(MOCVD)
 参考文献
第四章 薄膜的形成与生长
 *节 形核
 一、凝聚过程
 二、LangmuIR-Frenkel凝聚理论 
 三、成核理论
 四、实验结果
 第二节 生长过程
 一、一般描述
 二、类液体合并
 三、沉积参数的影响
 第三节 薄膜的生长模式
 第四节 远离平衡态薄膜生长
 一、粗糙表面的结构和生长
 二、简单模型
 三、薄膜生长模型的实验研究
 参考文献
第五章 薄膜表征
 *节 薄膜厚度控制及测量
 一、沉积率和厚度监测仪
 ……
第六章 薄膜材料
参考文献
  • 薄膜材料与薄膜技术(第二版第2版) 郑伟涛 化学工业出版社 9787122013149 正版旧书

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