薄膜物理与器件
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作者肖定全 等 著
出版社国防工业出版社
ISBN9787118072389
出版时间2011-05
版次1
装帧平装
开本16开
纸张胶版纸
页数332页
字数99999千字
定价45元
货号5240427
上书时间2024-07-06
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商品详情
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基本信息
书名:薄膜物理与器件
定价：45元
作者:肖定全 等 著
出版社：国防工业出版社
出版日期：2011-05-01
ISBN：9787118072389
字数：496000
页码：332
版次：
装帧：平装
开本：16开
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内容提要
《普通高等教育“十一五”规划教材：薄膜物理与器件》主要论述了薄膜物理与薄膜器件的基本内容，并概括介绍了在新材料技术领域中有着重要应用的几类主要的薄膜材料。书中比较系统地介绍了薄膜的物理化学制备原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术等；同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体性质、磁学性质、超导性质等；此外，还扼要介绍了几类重要薄膜材料及其性能，分析归纳了相关研究发展动态。 《普通高等教育“十一五”规划教材：薄膜物理与器件》可作为材料科学与工程、电子科学与工程、电子材料与元器件、半导体物理与器件、应用物理学等专业的教材或教学参考书，也可供相关科技、企业、公司的管理和技术人员参考。
目录
章 真空技术基础1.1 真空基础1.1.1 真空的定义及其度量单位1.1.2 真空的分类1.1.3 气体与蒸气1.2 稀薄气体的性质1.2.1 理想气体定律1.2.2 气体分子的速度分布1.2.3 平均自由程1.2.4 碰撞次数与余弦散射定律1.2.5 真空在薄膜制备中的作用1.3 真空的获得1.3.1 气体的流动状态1.3.2 真空的获得1.4 真空的测量1.4.1 热偶真空计和热阻真空计1.4.2 电离真空计1.4.3 薄膜真空计1.4.4 其他类型的真空计习题与思考题第二章 薄膜的物理制备工艺学2.1 薄膜制备方法概述2.2 真空蒸发镀膜2.2.1 真空蒸发原理2.2.2 蒸发源的蒸发特性2.2.3 蒸发源的加热方式2.2.4 合金及化合物的蒸发2.3 溅射镀膜2.3.1 概述2.3.2 辉光放电2.3.3 表征溅射特性的基本参数2.3.4 溅射过程与溅射镀膜2.3.5 溅射机理2.3.6 主要溅射镀膜方式2.3.7 溅射镀膜的厚度均匀性分析2.3.8 溅射镀膜与真空蒸发镀膜的比较2.4 离子束镀膜2.4.1 离子镀的原理与特点2.4.2 离子轰击及其在镀膜中的作用2.4.3 粒子轰击对薄膜生长的影响2.4.4 离子镀的类型及特点2.5 分子束外延技术2.5.1 外延的基本概念2.5.2 MBE装置及原理2.5.3 MBE的特点2.6 脉冲激光沉积技术2.6.1 脉冲激光沉积技术概述2.6.2 脉冲激光沉积技术的特点2.6.3 脉冲激光沉积薄膜技术的改进2.6.4 脉冲激光沉积薄膜技术的发展习题与思考题第三章 薄膜的化学制备工艺学3.1 概述3.2 化学气相沉积3.2.1 化学气相沉积简介3.2.2 （CVI）的基本原理3.2.3 CVD法的主要特点3。2.4 几种主要的（CVD）技术简介3.3 薄膜的化学溶液制备技术3.3.1 化学反应镀膜3.3.2 溶胶－凝胶法（Sol-Gel）法3.3.3 阳极氧化法3.3.4 电镀法3.3.5 热分解法3.4 薄膜的软溶液制备技术3.4.1 软溶液制备技术的基本原理3.4.2 水热电化学3.5 超薄有机薄膜的LB制备技术……第四章 薄膜制备中的相关技术第五章 薄膜的形成与生长第六章 现代薄膜分析方法第七章 薄膜的物理性质第八章 几种重要的功能薄材料第九章 薄膜的应用主要词汇汉英索引参考文献
作者介绍
序言
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【封面】
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