Characterization in compound semiconductor processing
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作者Gary E. McGuire, Yale E. Strausser
出版社哈尔滨工业大学出版社
ISBN9787560342818
出版时间2014-01
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开本其他
定价68元
货号1987799
上书时间2024-12-28
商品详情
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导语摘要
化合物半导体加工中的表征一书是为使用化合物半导体材料与设备的科学家与工程师准备的,他们并不是表征专家。在研发与GaAs、GaA1As、LnP及HgCdTe基设备的制造中通常使用的材料与工艺提供常见的分析问题实例。这本布伦德尔、埃文斯、麦克盖尔编著的《化合物半导体加工中的表征》讨论了各种表征技术,深入了解每种技术是如何单独或结合使用来解决与材料相关的问题。这本书有助于选择并应用适当的分析技术在材料与设备加工的各个阶段,如:基体处理、外延生长、绝缘膜沉积、接触组、掺杂剂的引入。
目录
化合物半导体加工中的表征一书是为使用化合物半导体材料与设备的科学家与工程师准备的, 他们并不是表征专家。在研发与GaAs、GaA1As、LnP及HgCdTe基设备的制造中通常使用的材料与工艺提供常见的分析问题实例。这本书讨论了各种表征技术, 深入了解每种技术是如何单独或结合使用来解决与材料相关的问题。这本书有助于选择并应用适当的分析技术在材料与设备加工的各个阶段, 如: 基体处理、外延生长、绝缘膜沉积、接触组、掺杂剂的引入。
内容摘要
化合物半导体加工中的表征一书是为使用化合物半导体材料与设备的科学家与工程师准备的,他们并不是表征专家。在研发与gaas、gaa1as、lnp及hgcdte基设备的制造中通常使用的材料与工艺提供常见的分析问题实例。这本布伦德尔、埃文斯、麦盖尔编著的《化合物半导体加工中的表征》讨论了各种表征技术,深入了解每种技术是如何单独或结合使用来解决与材料相关的问题。这本书有助于选择并应用适当的分析技术在材料与设备加工的各个阶段,如:基体处理、外延生长、绝缘膜沉积、接触组、掺杂剂的引入。
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