表面科学与薄膜技术基础
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北京朝阳
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作者张永平
出版社中国科技出版传媒股份有限公司
ISBN9787030731289
出版时间2021-02
装帧平装
开本其他
定价98元
货号11787489
上书时间2024-06-28
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目录
目录
前言
第1章 真空物理基础 1
1.1 真空基础知识 1
1.2 气体动力学理论 3
1.3 真空获得 10
1.4 真空测量 19
1.5 真空系统 25
1.6 本章小结 26
习题 27
参考文献 28
第2章 表面科学基础 29
2.1 表面和体材料 29
2.2 表面重构 33
2.3 表面结构缺陷 37
2.4 表面张力和表面能 40
2.5 表面吸附 43
2.6 表面电子结构 49
2.7 本章小结 52
习题 52
参考文献 52
第3章 薄膜物理基础 53
3.1 薄膜生长模式 53
3.2 形核的热力学模型 55
3.3 形核和生长的动力学过程 61
3.4 团簇的聚结与耗尽 62
3.5 形核与生长的实验研究 65
3.6 本章小结 68
习题 69
参考文献 69
第4章 热蒸发沉积 70
4.1 蒸发的物理化学特性 70
4.2 薄膜厚度均匀性和纯度 76
4.3 热蒸发硬件 82
4.4 热蒸发技术的应用 85
4.5 本章小结 87
习题 88
参考文献 88
第5章 溅射镀膜 89
5.1 等离子体和汤森放电 90
5.2 等离子体中的反应 94
5.3 溅射物理 98
5.4 溅射沉积薄膜过程 103
5.5 本章小结 108
习题 108
参考文献 108
第6章 化学气相沉积 109
6.1 反应类型 110
6.2 CVD热力学 113
6.3 气体输运 114
6.4 热CVD工艺 118
6.5 等离子体CVD工艺 120
6.6 激光CVD工艺 122
6.7 金属有机CVD工艺 123
6.8 本章小结 124
习题 124
参考文献 125
第7章 薄膜结构 126
7.1 薄膜结构演化 126
7.2 热蒸发沉积薄膜结构和形貌 129
7.3 溅射镀膜薄膜结构和形貌 133
7.4 CVD薄膜结构和形貌 136
7.5 本章小结 137
习题 138
参考文献 138
第8章 现代表面分析技术 139
8.1 X射线光电子能谱 139
8.2 紫外光电子能谱 149
8.3 X射线衍射和低能电子衍射 152
8.4 扫描隧道显微镜和原子力显微镜 156
8.5 振动谱 159
8.6 本章小结 164
习题 164
参考文献 165
第9章 薄膜材料 166
9.1 金刚石薄膜 166
9.2 超硬薄膜 173
9.3 半导体薄膜 178
9.4 磁性存储薄膜 181
习题 184
参考文献 184
内容摘要
现代半导体技术和优选材料研发的进步，促进薄膜材料和制备技术快速发展，要求薄膜制备技术和薄膜结构有精细控制，需要了解表面与薄膜方面的基本物理知识。本书着重介绍表面与薄膜相关的基本概念、基本原理，帮助理解掌握薄膜技术的基本知识，为工作和科研打下良好基础。本书内容包括真空物理基础、表面科学基础、薄膜物理基础、薄膜生长技术、薄膜结构、表面和薄膜分析技术，以及几种常见的薄膜材料。本书适合作为高校材料类、物理类专业及相关专业本科生、研究生的教学参考书，亦可供从事相关领域研究的科学工作者参考。
精彩内容
一。薄膜动力学理论二、表面科学基础三、薄膜物理基础四、热蒸发沉积五、溅射渡膜六、化学气象沉积七、薄膜结构八、现代表面分析技术九、薄膜材料。本书可供化学工程、工业催化、材料科学等相关专业高校师生及相关研究人员参考学习。
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