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石墨烯薄膜制备【正版新书】

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作者李雪松,陈远富,青芳竹

出版社化学工业出版社

ISBN9787122337528

出版时间2019-06

装帧平装

开本16开

定价88元

货号1201896967

上书时间2024-07-01

   商品详情   

品相描述:全新
商品描述
目录
章 石墨烯简介/ 001
1.1 发展历程001
1.2 结构与性质002
1.3 分类及命名004
1.4 结构表征与性能测量005
1.4.1光学显微分析005
1.4.2拉曼光谱分析006
1.4.3电子显微分析007
1.4.4扫描探针显微分析008
1.4.5其他表征技术008
1.4.6电学性能测量008
1.5 石墨烯的应用010
1.6 制备方法011
参考文献012
第2章 化学气相沉积技术/ 017
2.1 CVD的特征、分类及发展017
2.1.1CVD的特征017
2.1.2CVD的分类018
2.1.3CVD的发展020
2.2 CVD反应原理021
2.2.1CVD反应过程021
2.2.2CVD反应类型022
2.2.3CVD的热、动力学原理024
2.3 真空技术基础028
2.3.1真空的概念及分类028
2.3.2真空系统抽气过程定量描述029
2.3.3真空系统及真空泵031
2.3.4真空测量及真空检漏032
2.4 CVD系统简介034
2.4.1CVD系统的组成034
2.4.2常见CVD系统035
2.5 CVD反应过程控制040
2.5.1CVD反应的主要参数040
2.5.2CVD工艺参数及过程控制041
2.6 CVD制备石墨烯概述042
2.6.1CVD制备石墨烯的发展历程042
2.6.2CVD制备石墨烯的分类044
参考文献045
第3章 石墨烯的成核与生长/ 047
3.1 石墨烯CVD生长过程047
3.2 气相反应048
3.3 甲烷的吸附与分解050
3.4 活性基团052
3.5 石墨烯的成核055
3.6 石墨烯单晶的生长形状060
3.6.1Wulff构型060
3.6.2热力学平衡结构060
3.6.3动力学稳定性和生长行为063
3.6.4单晶形状的实验结果064
参考文献078
第4章 石墨烯单晶制备/ 081
4.1 石墨烯成核密度的控制081
4.1.1基底表面的影响081
4.1.2碳杂质的影响082
4.1.3温度的影响086
4.1.4甲烷和氢气的影响088
4.1.5限域生长089
4.1.6氧的影响090
4.1.7基底表面钝化093
4.1.8多级生长094
4.1.9定位成核095
4.2 同取向外延生长098
4.2.1大面积Cu(111)单晶基底制备099
4.2.2石墨烯的外延生长103
参考文献105
第5章 石墨烯的层数控制/ 107
5.1 表面控制生长108
5.1.1共生长109
5.1.2面上生长111
5.1.3面下生长121
5.1.4影响石墨烯层数的因素125
5.2 溶解度控制生长143
5.2.1降温速度控制144
5.2.2容量控制144
5.2.3溶解度控制146
参考文献148
第6章 石墨烯薄膜的转移/ 151
6.1 聚合物辅助基底刻蚀法151
6.1.1PDMS辅助转移152
6.1.2PMMA辅助转移154
6.1.3TRT辅助转移157
6.2 聚合物辅助剥离法157
6.2.1机械剥离158
6.2.2电化学剥离转移161
6.3 直接转移法166
6.3.1热层压法166
6.3.2静电吸附167
6.3.3“面对面”转移170
6.3.4自组装层171
参考文献172
第7章 面向工业应用的石墨烯薄膜制备/ 175
7.1 低温制备技术175
7.1.1TCVD法176
7.1.2PECVD法188
7.2 非金属基底制备技术193
7.2.1半导体/绝缘介质基底193
7.2.2h-BN基底209
7.2.3玻璃基底211
7.2.4其他半导体或高k介质基底215
7.3 大面积及工业化制备217
7.3.1片式制备217
7.3.2卷对卷制备与转移218
参考文献223
第8章 总结与展望/ 228
参考文献232

内容摘要
本书根据作者多年的石墨烯薄膜制备经验和研究成果,并结合靠前外石墨烯薄膜制备的很新研究进展编撰而成。本书主要介绍基于化学气相沉积法的石墨烯薄膜制备技术,首先对石墨烯概念、发展历程和表征进行概括介绍,接着简单介绍化学气相沉积技术,然后系统介绍石墨烯的成核与生长、单晶石墨烯的制备、石墨烯的层数控制,进一步介绍石墨烯薄膜的转移技术以及面向工业应用的石墨烯薄膜规模化制备技术,很后对石墨烯薄膜现有制备技术进行总结,并对石墨烯薄膜的未来发展进行了展望。
本书对石墨烯薄膜制备技术进行了全面系统的介绍,既方便初学者对该技术快速了解,又能使专业科研与技术人员对该技术有系统深入的认识。希望本书能对石墨烯薄膜制备技术的发展与创新提供启发与指导。

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