蒸镀生产工艺技术大全
￥ 300 九五品
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北京丰台
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作者方应翠
出版社科学出版社
出版时间2014
印刷时间2014
装帧精装
上书时间2014-12-07
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第一部分：《正版图书——真空镀膜原理与技术 》出版社最新出版图书
图书介绍 目录如下：
第一章真空镀膜概述
1.1固态薄膜简介
1.2真空镀膜简介
1.2.1真空镀膜物理过程
1.2.2真空镀膜的分类
1.2.3真空镀膜的特点
1.3真空镀膜技术的应用和发展
1.4真空镀膜系统
1.4.1真空镀膜系统的基本概念
1.4.2真空泵
1.4.3真空计
参考文献
第二章真空镀膜成膜过程
2.1薄膜生长简介
2.2固体表面
2.3薄膜生长过程
2.3.1吸附
2.3.2扩散和脱附
2.3.3成核
2.3.4连续膜的形成
2.4薄膜生长的三种模式
2.5固态薄膜的结构和缺陷
2.6固体薄膜的性质
2.7固体薄膜应力
2.8薄膜与基体的附着力
2.9基体
第三章真空蒸发镀膜
3.1真空蒸发镀膜原理
3.2电阻蒸发源
3.2.1电阳蒸发源的原理
3.2.2电阻蒸发源的结构
3.2.3电阻加热源的主要特点
3.2.4电阻加热真空蒸发镀的应用
3.3电子束蒸发源
3.3.1e型电子枪的原理和结构
3.3.2e型电子枪蒸发源的特点
3.3.3e型电子枪真空蒸发镀的应用
3.4感应加热蒸发源
3.4.1感应加热蒸发源的原理
3.4.2感应加热蒸发源的特点
3.5脉冲激光沉积（PLD）
3.5.1PLD系统
3.5.2PLD工作原理
3.5.3PLD技术特点
3.5.4PLD应用和发展
3.6分子束外延
3.6.1分子柬外延原理
3.6.2分子束外延装置
3.6.3分子束外延特点
3.6.4分子束外延技术应用及进展
3.7真空蒸发镀膜中的重要参数
3.8蒸发镀中基体上沉积的膜的厚度均匀性
3.8.1单室蒸发镀薄膜均匀性计算
3.8.2蒸发源与基片的相对位置对薄膜均匀性的影响
参考文献
第四章真空溅射镀膜
4.1直流二极辉光放电
4.2等离子体
4.3溅射原理
4.4直流溅射镀膜
4.4.1直流二极溅射镀膜
4.4.2直流二极偏压溅射镀膜
4.4.3直流多极溅射镀膜
4.5直流磁控溅射镀膜
4.5.1磁控溅射镀膜原理及特点
4.5.2柱状靶
4.5.3平面靶
4.5.4S枪
4.5.5磁控溅射镀膜一般特征
4.5.6直流反应磁控溅射镀膜
4.6射频溅射镀膜
4.6.1射频辉光放电
4.6.2射频溅射镀膜
4.7中频磁控溅射镀膜
4.8脉冲直流辉光放电镀膜
4.9非平衡磁控溅射镀膜
4.10真空蒸发和溅射镀膜参数与薄膜形貌关系
参考文献
第五章真空离子镀
5.1等离子体离子镀概述
5.1.1等离子体离子镀原理
5.1.2等离子体离子镀特点
5.1.3等离子体离子镀分类
5.2等离子体蒸发离子镀
5.2.1e型电子枪蒸发离子镀
5.2.2空心阴极放电离子镀
5.2.3等离子体激活蒸发离子镀
5.2.4等离子体激活高速离子镀
5.3等离子体磁控溅射离子镀
5.3.1磁控溅射离子镀
5.3.2离化的磁控溅射离子镀
5.3.3高能脉冲磁控溅射离子镀
5.3.4自溅射
5.3.5空心阴极辅助的高密度溅射离子镀
5.4电弧离子镀
5.4.1阴极电弧离子镀
5.4.2脉冲偏压电弧离子镀
5.4.3阳极电弧离子镀
5.5束流离子镀
5.5.1离子束沉积
5.5.2团簇离子束沉积
5.5.3离子束辅助沉积
参考文献
第六章化学气相沉积
6.1概述
6.2化学气相沉积的动态过程
6.3几种常见的化学气相沉积
6.3.1热化学气相沉积
6.3.2低压化学气相沉积
6.3.3等离子体增强型化学气相沉积
6.3.4原子层沉积
6.3.5其他化学气相沉积简介
参考文献
第二部分：《正版光盘—— 蒸镀工艺配方、真空蒸镀生产技术及蒸镀方法》光盘，包含以下目录所对应内容，几乎涵盖了所有这方面的内容。
光盘内容介绍 目录如下：
１、ｃｖｄ用原料化合物及其制造方法及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀法
２、ｃｖｄ用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
３、ｃｖｄ用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
４、彩色阴极射线管及其制造方法和蒸镀用复合材料
５、层压薄膜和使用它的蒸镀薄膜
６、除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法
７、带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置
８、等离子体蒸镀设备防止凝缩装置
９、电激发光显示板的制造方法及蒸镀遮罩
１０、电激发光元件的制造方法及蒸镀遮罩
１１、改进型蒸镀方法
１２、高温超导薄膜双面蒸镀技术及其装置
１３、金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器
１４、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置
１５、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
１６、利用蒸镀夹具的手机外壳ｅｍｉ层真空蒸镀方法及夹具
１７、连续式蒸镀溅镀机
１８、免蒸镀的硬式带式自动焊接封装方法
１９、锌蒸镀薄膜及金属化薄膜电容器
２０、掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置
２１、氧化镁蒸镀材料
２２、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置
２３、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法
２４、一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
２５、一种用于半导体激光器腔面蒸镀的非接触固定方式的夹具
２６、阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法
２７、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜
２８、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法
２９、用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料
３０、用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置
３１、有机ｅｌ元件制造用蒸镀装置的室内的清洗方法
３２、有机场致发光膜蒸镀用蒸镀源
３３、有机发光二极管蒸镀机台
３４、有机膜蒸镀方法
３５、在光学基片上蒸镀镀膜的方法
３６、在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备
３７、真空电弧蒸镀方法及装置
３８、真空蒸镀设备用的蒸镀装置
３９、蒸镀材料及其利用该材料制造光学薄膜
４０、蒸镀材料其制备方法和用该材料制备光学涂层方法
４１、蒸镀方法及显示装置的制造方法
４２、蒸镀方法及蒸镀装置
４３、蒸镀膜
４４、蒸镀掩模及制法、显示装置及制法以及具有其的电子机器
４５、蒸镀用坩锅
４６、蒸镀用掩模及其制造方法
４７、蒸镀装置 ２
４８、蒸镀装置 ３
４９、蒸镀装置 ４
５０、蒸镀装置
５１、直接蒸镀用树脂组合物、使用该组合物的模塑制品以及表面金属化处理的灯罩
５２、制作电致发光显示器的、使用电磁铁的蒸镀装置及采用此装置的蒸镀方法
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