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微纳米加工技术及其应用

50 九品

仅1件

云南昆明
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作者崔铮 著

出版社高等教育出版社

出版时间2005-06

版次1

装帧平装

货号T5

上书时间2023-02-11

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品相描述:九品
图书标准信息
  • 作者 崔铮 著
  • 出版社 高等教育出版社
  • 出版时间 2005-06
  • 版次 1
  • ISBN 9787040168808
  • 定价 40.20元
  • 装帧 平装
  • 开本 其他
  • 纸张 胶版纸
  • 页数 293页
  • 字数 330千字
【内容简介】
本书集作者多年来的实践经验与研究成果,系统地介绍了微纳米加工技术的基础,包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加技术、X射线曝光技术、各种刻蚀技术和微纳米尺度的复制技术。对各种加工技术着重讲清原理,列举基本的工艺步骤,说明各种工艺条件的由来,并注意给出典型工艺参数。充分分析了各种技术的优缺点及在应用过程中的注意事项。全书强调实用,避免烦琐的数学分析,既注重基础知识又兼顾微纳米加工领域近年来的*进展及在各高科技领域的应用,并列举了相关参考文献供理步深入研究,因此不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生和研究生,还是对已经有一定工作经验的专业科技人员,都具有很好的参考价值。
【目录】
第1章  绪论

  1.1  微纳米技术与微纳米加工技术

  1.2  微纳米加工技术的分类

  1.3  本书的内容与结构

  参考文献

第2章  光学曝光技术

  2.1  光学曝光方式与原理

  2.2  光学曝光的工艺过程

  2.3  光刻胶的特性

  2.4  光学掩模版的设计与制作

  2.5  突破光学曝光分辨率的新技术

  2.6  光学曝技术的极限

  2.7  厚胶曝光技术

  2.8  灰度曝光技术

  2.9  光学曝光的计算机模拟设计

  参考文献

第3章  电子束曝光技术

  3.1  电子光学原理

  3.2  电子束曝光系统

  3.3  电子束曝光图形的设计与数据格式

  3.4  电子束抗蚀剂及其工艺

  3.5  电子束散射与邻近效应

  3.6  电子束曝光邻近效应的校正

  3.7  电子束曝光的计算机模拟

  3.8  电子束曝光的极限分辨率

  参考文献

第4章  聚焦离子束加工技术

  4.1  液态金属离子源

  4.2  聚焦离子束系统

  4.3  离子在固体材料中的散射

  4.4  聚焦离子束加工原理

  4.5  聚焦离子束加工技术的应用

  4.6  聚焦离子束曝光技术

  4.7  聚焦离子束注入技术

  参考文献

第5章  X射线曝光技术

第6章  刻蚀技术

第7章  复制技术

第8章  微纳米加工技术的应用

中英文名词对照索引

结束语
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